• 通过存储测试，晶须符合国际标准-
• 甲基磺酸体系
• 电镀厚度Cpk > 2.0
• 良好的外观质量
• 高速沉淀速率
• 较高的分散能力
• 无泥渣生成
• 5年内电镀槽不需更换.
• 适合不同类型的设备 (Meco, Technic, AEM …)
• 在不同的底材上良好沉积 (铜, 合金42, 镍 ….)

 主要产品还有：